आणविक किरण एपिटैक्सी को उच्च निर्वात या अति-उच्च निर्वात (1 x 10) में किया गया था^-8पा) पर्यावरण. आणविक किरण एपिटेक्सी का सबसे महत्वपूर्ण पहलू इसकी कम जमाव दर है, जो आमतौर पर फिल्म को प्रति घंटे 3000 एनएम से कम की दर से एपिटेक्सियल बढ़ने की अनुमति देती है। इतनी कम जमाव दर के लिए अन्य जमाव विधियों के समान सफाई के स्तर को प्राप्त करने के लिए पर्याप्त उच्च वैक्यूम की आवश्यकता होती है।

ऊपर वर्णित अल्ट्रा-हाई वैक्यूम को पूरा करने के लिए, एमबीई डिवाइस (नुड्सन सेल) में एक शीतलन परत होती है, और ग्रोथ चैंबर के अल्ट्रा-हाई वैक्यूम वातावरण को तरल नाइट्रोजन परिसंचरण प्रणाली का उपयोग करके बनाए रखा जाना चाहिए। तरल नाइट्रोजन डिवाइस के आंतरिक तापमान को 77 केल्विन (-196 डिग्री सेल्सियस) तक ठंडा कर देता है। कम तापमान वाला वातावरण निर्वात में अशुद्धियों की मात्रा को और कम कर सकता है और पतली फिल्मों के जमाव के लिए बेहतर स्थिति प्रदान कर सकता है। इसलिए, -196 डिग्री सेल्सियस तरल नाइट्रोजन की निरंतर और स्थिर आपूर्ति प्रदान करने के लिए एमबीई उपकरण के लिए एक समर्पित तरल नाइट्रोजन शीतलन परिसंचरण प्रणाली की आवश्यकता होती है।